v10 kl系列稀釋系統(tǒng)可以以確定和可靠的方式通過(guò)稀釋系數(shù)01:10降低氣霧劑的濃度，也可以降低高濃度的氣霧劑的濃度。

Palas®VKL 10稀釋系統(tǒng)用于垂直操作，其粉末和煙塵的粒徑范圍***大為20 µm。通過(guò)多個(gè)VKL級(jí)聯(lián)系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)高達(dá)1：100,000的稀釋系數(shù)。

功能原理：

無(wú)顆�？諝猓�體積流量VR）通過(guò)吸嘴連通的環(huán)形通道進(jìn)行循環(huán)。因此，根據(jù)伯努利方程，在吸嘴處產(chǎn)生體積流量VAn。

稀釋系數(shù)VF根據(jù)以下公式計(jì)算

Palas®級(jí)聯(lián)稀釋系統(tǒng)的粒徑分布的代表性稀釋度

VDI報(bào)告數(shù)量（從1973年到2007年）從計(jì)量學(xué)上證明，使用Palas®稀釋系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)可重現(xiàn)的氣溶膠稀釋（低至VF100,000 ）。

簡(jiǎn)單的現(xiàn)場(chǎng)功能測(cè)試

通過(guò)此簡(jiǎn)單的測(cè)試設(shè)置，任何人都可以檢查Palas®級(jí)聯(lián)稀釋系統(tǒng)：

首先，通過(guò)稀釋步驟進(jìn)行顆粒測(cè)量。在此重要的是氣溶膠濃度例如待測(cè)實(shí)驗(yàn)室空氣不超過(guò)重合效應(yīng)極限（***大可檢測(cè)氣溶膠濃度）。在第二步中，待測(cè)稀釋步驟串聯(lián)（級(jí)聯(lián)）。為了檢查測(cè)試步驟（位置2）的稀釋系數(shù)，將位置1處的測(cè)量結(jié)果中的總顆粒數(shù)除以位置2處的總顆粒數(shù)。

實(shí)驗(yàn)裝置

位置1：實(shí)驗(yàn)室空氣

位置2：實(shí)驗(yàn)室空氣

VKL 100用于通過(guò)OPC進(jìn)行無(wú)重合效應(yīng)的測(cè)量； VKL 10已經(jīng)過(guò)測(cè)試。

測(cè)量示例

稀釋系數(shù)的計(jì)算

假設(shè)***次測(cè)量不受重合誤差的影響，并且被測(cè)試的稀釋系統(tǒng)正在運(yùn)行（未受污染），則確定稀釋系數(shù)約為10。如果不是這種情況，則測(cè)量1中可能存在重合效應(yīng)。在這種情況下，必須降低氣溶膠濃度或使用另外的稀釋步驟。另一種可能性是待測(cè)試的稀釋步驟受污染。在這種情況下，必須清潔設(shè)備并重復(fù)測(cè)試。

表1：Palas®稀釋系統(tǒng)的技術(shù)特性